专利┆化工┆机械┆建材┆通讯┆纺织┆电子┆农业┆服饰┆环保┆家居┆电器┆办公┆玩具┆文教┆包装
电气┆塑料┆能源┆橡胶┆照明┆运动┆仪器┆冶金┆数码┆汽车┆物流┆纸业┆印刷┆礼品┆建筑┆五金
发明名称 全文
专利
供应商机
采购商机
企业库
商讯
产品库
钱眼专利首页 > 溅射 的专利共 961 条
<<　1　2　3　4　5　6　7　8　9　10　 >>免费注册 
热点信息推荐



热点企业推荐
 
 
 
排序
专利信息
公开日
地区
我要留言
101
具有高熔相的溅射靶　[申请号/专利号：200710008320]
申请人/专利权人：W.C.贺利氏有限公司
本发明涉及含有至少两种相或组分的材料的溅射靶，其中至少一种少数相在基质中是低溶解的，具有高于基质的熔点，至少一种少数相的颗粒或者由它的颗粒形成的团块具有最大１０μｍ平均...
2007年8月1日
102
形成金属薄膜和金属布线图案的方法及显示面板制造方法　[申请号/专利号：200710001440]
申请人/专利权人：三星电子株式会社
本发明公开了一种形成金属薄膜的方法，包括：在对应于靶的区定位基底、靶包含银（Ａｇ）并且提供于反应空间内、向反应空间内提供惰性气体和含氧气体。此外，所述方法还包括通过在靶...
2007年12月26日
103
2008年2月13日
104
2008年1月30日
105
2008年1月23日
106
溅射装置和成膜方法　[申请号/专利号：200680001790]
申请人/专利权人：株式会社爱发科
一种溅射装置，围绕旋转轴线使圆盘状衬底旋转的同时，对该衬底的衬底表面进行成膜处理，其特征在于，该装置包括，腔室；台子，以所述旋转轴线为中心使该衬底旋转；溅射阴极，其具有...
2008年1月2日
107
溅镀装置、透明导电膜的制造方法　[申请号/专利号：200680001385]
申请人/专利权人：株式会社爱发科
形成一种电阻值小，透过率高，对下层的有机ＥＬ膜不造成伤害的透明导电膜。在平行隔开有间隔而配置的第１、第２靶材（２１ａ、２１ｂ）的间隙，与成膜对象物（５）的搬送路径（１４...
2007年11月28日
108
管形靶　[申请号/专利号：200680000272]
申请人/专利权人：普兰西欧洲股份公司
本发明涉及一种生产管形靶的方法，该管形靶包含钼或钼合金，其含氧量低于５０μｇ／ｇ，密度大于理论密度的９９％，且平均粒径小于１００μｍ，并且该管形靶与一支承管相连接，通过...
2007年10月10日
109
一种用于生成化合物材料薄膜的源装置　[申请号/专利号：200620152796]
申请人/专利权人：沈阳华迅真空科技有限公司
一种用于生成化合物材料薄膜的源装置，属于真空技术领域。其结构包括真空法兰、气体活化源及粒子源，气体活化源一端连接有气体活化源用气体管，气体活化源另一端设有粒子源，在粒子...
110
无时间延迟的连续式真空制程设备　[申请号/专利号：200620138501]
申请人/专利权人：柏腾科技股份有限公司
本实用新型涉及一种连续式的真空制程设备。此类设备可广泛应用于任何需要于真空下进行加工及／或检测工作的制程，例如光学或电子产品的蒸镀或溅镀制程。一种无时间延迟的连续式真空...
111
改进的半导体机台　[申请号/专利号：200620132708]
申请人/专利权人：联萌科技股份有限公司
一种适用于晶圆制程，具有防止残留钯材颗粒污染以及提高清洁效率的改进的半导体机台。此半导体机台包括一制程室、一挡板、一晶圆载盘、以及一承载装置。其中挡板设置于制程室内并具...
112
多段式反应溅射气体进气装置　[申请号/专利号：200620122651]
申请人/专利权人：黄鸣
一种多段式反应溅射气体进气装置，其进气主管由下段进气分管，中段进气分管，上段进气分管通过卡套连接成一排，每一进气分管的中部都与真空室内进气支管连接，进气分管均装有进气喷...
113
兼具净化与节能的基材　[申请号/专利号：200620121026]
申请人/专利权人：曹正尚
本实用新型涉及一种兼具净化与节能的基材。该基材包含有：一基底，为一绝缘材料；一溅射层，其包含有光触媒转化材料，采用真空溅射的方式设置于基底。基底的材料可以是玻璃、塑料物...
114
接地屏蔽组件　[申请号/专利号：200620113667]
申请人/专利权人：应用材料公司
这里提供了一种用于在物理气相沉积室中处理衬底的设备。在一个实施例中，用于在具有布置在盖组件中的靶和接地的室壁的物理气相沉积室中处理衬底的设备包括接地框架和接地屏蔽。接地...
115
一种表面金属镀膜设备用靶极系统　[申请号/专利号：200620085536]
申请人/专利权人：菏泽天宇科技开发有限责任公司
本实用新型公开了一种靶极系统，特别公开了一种表面金属镀膜设备用靶极系统。该表面金属镀膜设备用靶极系统，包括固定轴、与固定轴连接的导磁芯轴，固定轴外为密封室、固定架，固定...
116
真空镀膜机多级行星式工件架　[申请号/专利号：200620068928]
申请人/专利权人：吴俊雷
本实用新型涉及一种真空镀膜机多级行星式工件架。现行镀膜机的工件架为一级行星式工件架，完成对太阳能集热管的镀膜工艺相对来说效率较低。本实用新型是在一级行星式工件架的基础上...
117
电连接器　[申请号/专利号：200620057584]
申请人/专利权人：番禺得意精密电子工业有限公司
本实用新型电连接器，包括绝缘本体和导电端子、至少一设置于绝缘本体上的柱脚，所述柱脚的表面镀有金属层。本实用新型电连接器在绝缘本体上的柱脚的表面镀有金属层，可将柱脚直接定...
118
电连接器组件　[申请号/专利号：200620057012]
申请人/专利权人：番禺得意精密电子工业有限公司
一种电连接器组件，包括设有第一绝缘本体的第一连接器及设有第二绝缘本体的容置于第一绝缘本体的第二连接器，第一绝缘本体设有若干第一配合部，第二绝缘本体对应第一配合部之位置设...
119
连接器　[申请号/专利号：200620057006]
申请人/专利权人：番禺得意精密电子工业有限公司
本实用新型的目的在于提供一种连接器，其不具有金属外壳，但也具有屏蔽作用，其包括绝缘本体及导电端子，而所述导电端子至少包括一接地端子，其所述绝缘本体表面镀有具有遮蔽作用的...
120
发动机耐磨壁体结构　[申请号/专利号：200620047779]
申请人/专利权人：上海坤孚企业(集团)有限公司、上海坤孚通用机械制造有限公司、上海坤孚车辆配件有限公司
本实用新型公开了一种发动机耐磨壁体结构，其特征在于：在发动机气缸筒的内壁和活塞的外周覆合有复合耐磨层，该复合耐磨层由第一复合层和第二复合层构成；第一复合层覆合于发动机气...
121
高真空卷式镀膜机构　[申请号/专利号：200620019050]
申请人/专利权人：英志企业股份有限公司
一种高真空卷式镀膜机构，主要包含有两真空腔体及至少一组以上的溅镀装置所构成，其中真空腔体是以腔室及一盖体所构成，腔室内部设置有卷布轴、传动轴、滚轴、校正滚动条及张力控制...
122
背板加热装置　[申请号/专利号：200620004931]
申请人/专利权人：联华电子股份有限公司
一种背板加热装置，适用于配置在溅镀机台中，以均匀加热于溅镀机台中进行溅镀工艺的晶片的底部。背板加热装置包括本体、至少一第一气体输送管及加热单元。其中，本体有具有至少二第...
123
一种用于太阳能电池的氧化锌薄膜及制备方法　[申请号/专利号：200610167728]
申请人/专利权人：北京理工大学
溅射法制备纳米氧化锌薄膜并发现其具有明显的全日光波段光伏性能，涉及太能电池材料、光伏材料和电子材料。本发明提供了一种简单的、易于规模生产的方法，制备出具有优异全日光波段...
2007年5月16日
124
透明导电膜制造用烧结体靶及使用其制造的透明导电膜　[申请号/专利号：200610167476]
申请人/专利权人：住友金属矿山株式会社
本发明的透明导电膜制造用烧结体靶主要由Ｇａ、Ｉｎ和Ｏ形成，相对全部金属原子含有４９．１原子％以上６５原子％以下的Ｇａ，主要由β－ＧａＩｎＯ↓［３］相和Ｉｎ↓［２］Ｏ↓［...
2007年8月29日
125
半导体结构及其形成方法　[申请号/专利号：200610166920]
申请人/专利权人：国际商业机器公司
本发明提供了一种包括ＭＯ↓［ｘ］Ｎ↓［ｙ］的金属化合物及其制造方法，其中该金属化合物为ｐ型金属，功函数为约４．７５至约５．３ｅＶ，优选约５ｅＶ，在包括高ｋ电介质和界面层...
2007年6月27日
126
织物表面金属化处理的方法　[申请号/专利号：200610155975]
申请人/专利权人：苏州大学
本发明公开了一种利用等离子体溅射技术对织物表面进行金属化处理的方法，属纺织材料的功能性整理技术领域。将织物放置在等离子体处理腔体中，先进行等离子体处理；再在等离子体处理...
2007年9月19日
127
透明的高导电近红外反射镀膜玻璃及其制备方法　[申请号/专利号：200610154890]
申请人/专利权人：浙江大学
本发明公开的透明的高导电近红外反射镀膜玻璃由衬底和镀在衬底上的近红外反射膜层组成，近红外反射膜层的电子载流子浓度在１．０×１０↑［２１］ｃｍ↑［－３］～６．０×１０↑［...
2007年5月16日
128
可消耗材料的厚板及物理气相沉积靶材料　[申请号/专利号：200610152334]
申请人/专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
本发明提供一种可消耗材料的厚板及物理气相沉积靶材料，包括至少一侦测器，用以对于该可消耗材料的厚板接近或已经减少至该可消耗材料的一既定量发出信号。本发明所述的可消耗材料的...
2007年6月20日
129
指示器的形成方法　[申请号/专利号：200610152333]
申请人/专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
本发明提供一种指示器的形成方法，包括下列步骤：提供一块状材料；形成多个贯穿孔于该块状材料中；以及分割该块状材料以成为多个分离的构件，每个构件包括一个上述贯穿孔，其中每个...
2007年6月20日
130
侦测制程机台使用的消耗性材料厚板寿命的系统及方法　[申请号/专利号：200610152331]
申请人/专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
一种侦测制程机台使用的消耗性材料厚板寿命的系统及方法。提供消耗性材料厚板，其具有至少一指示器。操作制程机台时，通过连接于该指示器的侦测器产生的信号数值判定其是否等于警示...
2007年6月20日
131
抗硫化银基涂层及其沉积方法和其使用　[申请号/专利号：200610149438]
申请人/专利权人：原子能委员会
本发明提供了一种抗硫化银基涂层及其沉积方法和其使用。通过从涂层自由表面到１０ｎｍ与１μｍ之间、优选１００ｎｍ与１μｍ之间的深度形成银、氧和可能存在于材料中的一种或多种可...
2007年5月23日
132
抗菌纺织材料的负压溅镀制造方法及其产品　[申请号/专利号：200610147601]
申请人/专利权人：周菊先
涉及纺织工业中生产、日用和技术用抗菌纺织材料的负压溅镀制造方法及其产品。方法特征是先对纺织材料的基材作等离子体预处理，随后采用溅镀方法在负压下溅射银、铜或钛的靶材制得原...
2007年7月18日
133
氧化物烧结体及其制造方法,以及溅射靶及透明导电膜　[申请号/专利号：200610142572]
申请人/专利权人：三井金属矿业株式会社
本发明提供一种氧化物烧结体，当其用作溅射靶时，可得到从使用初期至末期的稳定溅射放电，另外，可以得到在有机ＥＬ及高精细ＬＣＤ等中使用的Ｒａ及Ｒｙ小的透明导电膜，本发明还提...
2007年7月4日
134
一种磁镜场约束双靶非平衡磁控溅射方法　[申请号/专利号：200610134220]
申请人/专利权人：大连理工大学
本发明公开了一种磁镜场约束的对靶非平衡磁控溅射系统，主要用于表面工程技术领域。其特征在于：有两个通电的同轴线圈和两个永磁式磁控靶相对放置，通电线圈能够形成和两个永磁式磁...
2007年4月18日
135
可变喉部排气涡轮增压器和制造可变喉部机构构件的方法　[申请号/专利号：200610128895]
申请人/专利权人：三菱重工业株式会社
本发明公开了一种可变喉部式排气涡轮增压器，其中采用一种手段来减小与操作杆板或驱动环形成一体的连接销部分与连接销部分接合于其内的凹槽的接触表面的磨损，并且具有一种手段来防...
2007年2月28日
136
类金刚石碳硬质多层薄膜形成的物体和其制造方法　[申请号/专利号：200610128589]
申请人/专利权人：株式会社神户制钢所
一种类金刚石碳硬质多层薄膜形成的物体，其包括基底、主要由类金刚石碳构成的类金刚石碳薄膜和在基底和类金刚石碳薄膜之间的中间层。类金刚石碳薄膜从基底侧依次由第一类金刚石碳薄...
2007年3月14日
137
一种微纳硅基光放大器及该放大器的增益介质的制备方法　[申请号/专利号：200610125588]
申请人/专利权人：华中科技大学
一种微纳硅基光放大器及该放大器的增益介质的制备方法，它涉及一种硅基光放大器。本发明所述放大器包括光源部分、增益介质（２）和探测系统，增益介质（２）的两端分别通过保偏光纤...
2007年7月25日
138
一种高硅取向硅钢薄板的制备方法　[申请号/专利号：200610125541]
申请人/专利权人：武汉科技大学
本发明涉及一种高硅取向低碳高硅硅钢薄板的制备方法。其技术方案是将基材为硅含量低于３．０ｗｔ％的低碳钢或低硅硅钢置于溅射室，在真空或保护性气氛下，采用溅射沉积法将不同靶材...
2007年7月18日
139
用于切削工具的TiN/AlON纳米多层涂层反应磁控溅射制备方法　[申请号/专利号：200610116289]
申请人/专利权人：上海交通大学
本发明涉及的是一种用于切削工具技术领域的ＴｉＮ／ＡｌＯＮ纳米多层涂层反应磁控溅射制备方法。分别采用直流阴极控制的Ｔｉ靶和射频阴极控制的Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］靶，通过在Ａ...
2007年3月7日
140
绝缘性靶材及其制造方法、绝缘性复合氧化膜及装置　[申请号/专利号：200610112283]
申请人/专利权人：精工爱普生株式会社
本发明提供一种可在与现有的烧结法相比温度非常低的环境下获得的绝缘性靶材。上述绝缘性靶材用于获得以通式ＡＢ↓［１－ｘ］Ｃ↓［ｘ］Ｏ↓［３］表示的绝缘性复合氧化膜，其中，Ａ...
2007年3月7日
141
绝缘性靶材及其制造方法、导电性复合氧化膜及设备　[申请号/专利号：200610111222]
申请人/专利权人：精工爱普生株式会社
本发明提供一种绝缘性靶材，该绝缘性靶材质地均匀且绝缘性高，并具有良好的特性，用于制造导电性复合氧化膜。上述绝缘性靶材是用于获得以通式ＡＢＯ↓［３］表示的导电性复合氧化膜...
2007年2月21日
142
溅射电极以及具有溅射电极的溅射装置　[申请号/专利号：200610111086]
申请人/专利权人：株式会社爱发科
在利用由接合材料接合靶和背板而构成的靶组合体、通过溅射进行成膜时，接合时发生翘曲，则处理基板面内膜厚变得不均匀。本发明介由从背板的靶向外侧伸出的部分（４２ａ），把由靶（...
2007年2月21日
143
溅射靶　[申请号/专利号：200610110114]
申请人/专利权人：株式会社理光
一种包括多个成分区域具有盘形式的溅射靶，该区域的每一个含有独立成分，其中各成分区域形成盘的周边部分，并且当圆周穿过至少两个成分区域时，盘的圆周上的平均成分根据圆周半径而...
2007年2月14日
144
带电动机驱动的旋转阴极的真空涂层机　[申请号/专利号：200610109762]
申请人/专利权人：应用薄膜有限责任与两合公司
一种真空涂层机（１），其中一驱动装置（６）通过一弹性中间板（１４）顺应地安装至腔壳（３），以使所述驱动装置可跟随由旋转阴极（１０）施加的摆动，旋转阴极（１８）自由端上的...
2007年2月14日
145
溅射装置和溅射方法　[申请号/专利号：200610107628]
申请人/专利权人：株式会社爱发科
本发明的课题是提供在靶上不留下非侵蚀区域而且在进行反应性溅射的情况下能形成均匀的膜质的膜的溅射装置。本发明的溅射装置（２）的其特征在于：具备在真空室（２１）内隔开一定的...
2007年1月31日
146
溅射装置和溅射方法　[申请号/专利号：200610107627]
申请人/专利权人：株式会社爱发科
本发明的课题是提供在靶上不留下非侵蚀区域而且在进行反应性溅射的情况下能形成均匀的膜质的膜的溅射装置。本发明的溅射装置（２）的特征在于：具备在真空室（２１）内隔开一定的间...
2007年1月31日
147
用于溅射过程的阴极管　[申请号/专利号：200610106168]
申请人/专利权人：应用材料两合公司
本发明涉及一种带靶滑架和靶的阴极管。这里的靶可以是单件或多件靶。在靶的滑架和靶之间沿靶滑架的纵轴线设置有多个由导热材料制成的环型件。环型件由窄圆环相互分开。靶的至少一个...
2007年2月7日
148
高反射率可见光反射构件和用其的液晶显示器背光灯部件　[申请号/专利号：200610105781]
申请人/专利权人：东北大学、株式会社未来视野
本发明提供由在基板上形成的银薄膜和在上述银薄膜上形成的氮化硅保护膜构成的反射构件。银薄膜是以（１１１）面作为主要面方位的银薄膜。优选银薄膜是其９９％以上为以（１１１）面...
2007年1月31日
149
2008年1月30日
150
溅射靶、使用该溅射靶的光学薄膜及其制造方法、以及光学记录介质　[申请号/专利号：200610103049]
申请人/专利权人：株式会社东芝
一种溅射靶，包含Ｓｉ和Ｃ作为其主要成分，并包括其中Ｓｉ相以网状连续地存在于ＳｉＣ晶粒间的间隙中的结构。Ｓｉ相的平均直径被控制到１０００ｎｍ或更小。在含氧气体中溅射所述溅...
2007年1月10日
 

专利发明首页:·生活及医学 ·作业及运输 ·化学及冶金 ·纺织及造纸 ·建筑及采矿 ·机械及工程 ·物理及测量 ·电子及通讯
...
  　　共961 条信息，当前显示第 101 - 150 条，共20 页
钱眼网客户服务　　联系方式:E-mail:qianyan.biz@hotmail.com 　免责声明
将钱眼设为首页 | 将钱眼推荐给朋友
钱眼网 版权所有 Copyright ©2026 Qianyan.biz All rights reserved. | 网络实名：钱眼
钱眼客服电话:010-82727623 　E_Mail:qianyan.biz@hotmail.com　QQ:532008814　　点击这里给我发消息　
京公网安备 11010502034661号   京ICP备06048586号